紫外光催化氧化法与电导率法,哪种TOC检测技术更适合超纯水?
随着半导体工艺节点推进至3nm,超纯水TOC检测已成为良率控制的关键环节。SEMI F63-2025版标准明确要求,18MΩ·cm超纯水的TOC限值需从5ppb收紧至0.5ppb,这使得超纯水toc检测仪已成为半导体厂务管理的核心设备。
随着半导体工艺节点推进至3nm,超纯水TOC检测已成为良率控制的关键环节。SEMI F63-2025版标准明确要求,18MΩ·cm超纯水的TOC限值需从5ppb收紧至0.5ppb,这使得超纯水toc检测仪已成为半导体厂务管理的核心设备。
在半导体芯片制造过程中,超纯水作为晶圆清洗、光刻显影、化学机械抛光等关键工艺的“隐形原料”,其纯度直接决定产品良率。总有机碳(TOC)作为衡量水中有机物总量的核心指标,一旦超标可能导致晶圆表面缺陷、光刻图案失真等问题。本文将直接解答两个关键问题:半导体超纯水T